当硅片经清洗液处理后表面不沾水分子时称为疏水处理，反之表面吸附水膜时为亲水处理。纯净的硅片表面是疏水性的。从能量观点看，疏水性表面属低能表面，这时硅片表面张力r（SG）小于水分子表面张力r（SL）。亲水性表面则属高能表面，香港亲水处理，这时的硅表面张力r（SG）大于水分子表面张力r（SL）。由此可知，硅表面成为亲水性的基本条件为A=r（SG）- r（SL）＞0
利用氧等离子体表面处理，使PDMS与带有钝化层的硅片在室温常压下可以成功键合。在利用氧等离子体改性处理实现PDMS与其它基片键合的技术中，-般认为，在进行氧等离子体表面改性后，应立即将PDMS基片与盖片贴合，否则PDMS表面将很快恢复疏水性，从而导致键合失效，因此可操作工艺时间较短，实验亲水处理，一般为1 ~ 10min。而通常在需键合的PDMS基片和硅基片上都会带有相应的微细结构，涂层亲水处理，键合前需用一定的时间进行结构图形的对准，因此，基片亲水处理，如何使PDMS活性表面的持续时间得以延长，成为保证键合质量的关键。
近年来，随着我国经济的高速发展和工业化、城市化进程的加快，大量的生活和工业废水排入水体，使人类赖以生存的饮用水水源日益受到污染。据报道，我国目前90％以上的饮用水水源为微污染水体，约有3亿人喝不上达标的饮用水，饮用水安全问题已经引起了社会各界的广泛关注。由于饮用水水源的不断恶化，传统的混凝、沉淀、过滤和消毒处理工艺已经难以满足日益严格的水质要求。在饮用水处理技术的更新换代中，与常规水处理工艺相比，膜分离技术具有出水稳定、安全性高、占地面积小、容易实现自动控制等优点，已经成为21世纪有应用价值的水处理技术之一。
纳滤膜分离是一种介于超滤膜分离与反渗透膜分离之间新型膜分离技术，被广泛应用于硬水软化、水中少量有机物的去除、染料提纯脱盐、不同分子量有机物的分离和纯化等诸多工业领域。目前的纳滤膜大多是水性的，主要针对以水为溶剂的体系，而根据亲疏水性不同，水体中污染物小分子可以分为亲水性物质、疏水性物质和中性物质；水性的纳滤膜难以同时去除亲水性物质、疏水性物质和中性物质。
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