防脱片又叫防脱载玻片、离子修饰玻片和细胞捕获玻片等，硅片表面羟基化，是用化学或物理方法进行载玻片或盖玻片的表面修饰，金属表面羟基化，常用于细胞培养、病理学组织和细胞制片、液基细胞学薄层制片，以防止操作过程中细胞或组织掉片现象的发生。防脱片可分为:普通防脱载玻片、离子修饰玻片、正电荷玻片、负电荷玻片、醛化玻片、硅化玻片、氨基化玻片和细胞捕获玻片等。
生物芯片微阵列的制作技巧依照lp
做法可以分为两人们，表面羟基化，即原位合成和预合成后点样。预合成后点样就是指制取处理芯片微阵列前，要固定探针早已合成好，点滴系统软件必须要做的就是将这些合成好一点的试品涂印或涂装在基体.上。原位合成方式则由点滴将自动探针的构成部分逐渐转移至基体上，与此同时完成探针合成和转移目地。 
目前已有多种方法可以将寡核苷酸或短肽固定到固相支持物上。这些方法总体上有两种，表面羟基化原理，即原位合成（ in situ synthesis ）与合成点样两种。支持物有多种如玻璃片、硅片、聚膜、纤维素膜、尼龙膜等，但需经特殊处理。作原位合成的支持物在聚合反应前要先使其表面衍生出羟基或氨基（视所要固定基因芯片的分子为核酸或寡肽而定）并与保护基建立共价连接；作点样用的支持物为使其表面带上正电荷以吸附带负电荷的探针分子，通常需包被以氨基硅烷或多聚赖氨酸等。
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